GR-75-9氣氛保護回轉窯

中試用-氣氛保護回轉窯GR-75-9

主要技術參數：

1.高溫度：1050℃

2.使用溫度：950℃

3.使用氣氛：氮氣/空氣

4.爐管尺寸φ310x3100（mm）

5.加熱方式：鎳鉻合金絲加熱

6.保溫材料：陶瓷纖維；

7.溫區數：3區

8. 爐管材料：SUS310S耐熱不銹鋼

9.爐管轉速：1~6 r/min無級變頻調速，由轉動電機、減速機、齒輪傳動裝置、鏈條傳動裝置等構成，可實現自動和手動轉換；

10.表面溫升溫：≤室溫+35℃

11.大功率：75KW

12.保溫功率：45KW

13.報警系統: 整窯設有過載、爐管停轉、超溫等報警保護功能；

14. 控制方式：PLC和觸模屏

GR-75-9氣氛保護回轉窯適用于電子材料，如鈦酸鋇、碳酸鍶、碳酸壩、碳酸鈣、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化鋁，石墨類和鈷酸鋰、錳酸鋰、鎳酸鋰、磷酸鐵鋰、三元材料鋰電池粉體材料等生產用設備；

磁性材料：NFC、鎳梓鐵氧體、錳鋅鐵氧體等生產用設備；

KY法晶體生長爐

30kg級晶體生長爐

詳細描述：

凱氏長晶法(Kyropoulos method),簡稱KY法,又稱之為泡生法.其原理與柴氏拉晶法(Czochralskimethod)類似，先將原料加熱至熔點后熔化形成熔湯，再以單晶之晶種(SeedCrystal，又稱籽晶棒)接觸到熔湯表面，在晶種與熔湯的固液界面上開始生長和晶種相同晶體結構的單晶，晶種以極緩慢的速度往上拉升，但在晶種往上拉晶一段時間以形成晶頸，待熔湯與晶種界面的凝固速率穩定后，晶種便不再拉升，也沒有作旋轉，僅以控制冷卻速率方式來使單晶從上方逐漸往下凝固，后凝固成一整個單晶晶碇. 我司可提供30kg級、70kg級設備。

ZWJ高溫晶體生長爐

詳細描述：

此項目為高溫氧化物晶體生長設備，為國內用戶定制。爐體鐘罩式升降，放置坩堝和維護熱場。

底部坩堝升降，籽晶在坩堝底部，坩堝桿帶水冷。

采用分子泵或油擴散泵，控制系統帶有PLC和摸觸屏。

ZTD-800B單晶硅爐

ZTD-900B單晶硅爐

ZTD-950B單晶硅爐

設備用途:

本設備為生產太陽能電池用的單晶爐，坩堝尺寸18-22英寸，產量從60-130Kg，單晶硅棒直徑6.5-8英寸，設備高度為6.1-6.7米，主要可生產主流8英寸單晶硅棒。

本公司可提供生長工藝，保證生長出合格的單晶硅。設有樣機，歡迎來人參觀考察。

技術參數:

ZW-50-20鎢網燒結爐

主要技術參數：

1.額定功率：50KW

2.額定電壓：380V

3.Max.溫度：2000℃

4.工作區尺寸：Φ140*200

5.極限真空：8*10-4Pa

6.壓升率：<3Pa/小時

7.保護氣氛：氫氣

8.加熱區：一區

ZG-80真空熔煉爐

80kg真空熔煉爐ZG-80

主要技術參數：

1.額定功率：160KW

2.額定電壓：380V

3.Max.溫度：1700℃

4.冷態極限真空：5X10-3Pa

5.保護氣氛：Ar

ZT-50-16Y真空熱壓爐

1.額定功率：50KW

2.額定溫度：1600℃

3.工作區尺寸：?250×200

4.極限真空度：5X10-2Pa

5.Max.壓力：35噸

6.大位移：雙向各100mm

7.加壓方式：雙向

8.充氣壓力：0.015MPa

SPS-60T-30-Ⅲ燒結爐

主要技術參數：

型號：SPS-60T-30-Ⅲ

1.額定功率：300KW

2.額定電壓：380V

3.Max.溫度：  2300℃

4.輸出電流：30000A

5.輸出電壓：10V

6.極限真空：5X10-2Pa

7.保護氣氛：Ar

8.Max.壓力：60T